特許

J-GLOBAL ID：200903013310876062

欠陥検査装置及び検査方法

発明者： 山下 恭司
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-094677
公開番号（公開出願番号）：特開2001-281161
出願日： 2000年03月30日
公開日（公表日）： 2001年10月10日
要約：

【要約】【課題】 回路パターンが製作されたフォトマスクに対しウェハに転写される可能性の高い欠陥のみを高感度で検出する。【解決手段】 回路パターンが形成されたマスクの欠陥を検査する欠陥検査装置において、マスクのパターンを光学的に撮像して得られるセンサデータを記憶するセンサ画像メモリ11と、センサデータに対して基準となるべき参照データを記憶する参照画像メモリ12と、センサデータと参照データを画素毎に比較してこれらの不一致量を求める比較部13と、センサデータの注目画素の近傍に一定の大きさの欠陥が存在すると仮定して該欠陥がパターンエッジを移動させる割合を計算する欠陥転写評価部14と、欠陥転写評価部14からの欠陥転写評価関数Fと比較部13からの不一致量に基づいて検出すべき欠陥か否かを判定する欠陥判定部15と備えた。

請求項（抜粋）：

回路パターンが形成された試料の欠陥を検査する欠陥検査装置であって、前記試料のパターンを光学的に撮像してセンサデータを入力する手段と、前記センサデータに対して基準となるべき参照データを入力する手段と、前記センサデータと前記参照データを画素毎に比較してこれらの不一致量を求める手段と、前記センサデータの注目画素の近傍に一定の大きさの欠陥が存在すると仮定して該欠陥がパターンエッジを移動させる割合を計算する手段と、前記欠陥がパターンエッジを移動させる割合と前記不一致量に基づいて、該不一致量に相当する部分が検出すべき欠陥か否かを判定する手段と、を具備してなることを特徴とする欠陥検査装置。

IPC (4件)：

G01N 21/956 ,  G01B 11/24 ,  G03F 1/08 ,  H01L 21/66

FI (4件)：

G01N 21/956 A ,  G03F 1/08 S ,  H01L 21/66 J ,  G01B 11/24 F

Fターム (34件)：

2F065AA56 ,  2F065AA61 ,  2F065BB02 ,  2F065CC01 ,  2F065CC18 ,  2F065CC19 ,  2F065DD03 ,  2F065FF01 ,  2F065QQ25 ,  2F065RR00 ,  2F065UU05 ,  2G051AA56 ,  2G051AA65 ,  2G051AA90 ,  2G051AB07 ,  2G051AC21 ,  2G051CA03 ,  2G051CB05 ,  2G051DA07 ,  2G051EA14 ,  2G051EC01 ,  2G051EC02 ,  2G051ED04 ,  2G051ED07 ,  2H095BD04 ,  2H095BD17 ,  2H095BD27 ,  2H095BD29 ,  4M106AA09 ,  4M106CA39 ,  4M106DB04 ,  4M106DJ04 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ21