特許

J-GLOBAL ID：200903013316940323

有機EL素子の製造方法および製造装置

発明者： 飯島 誠
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-267125
公開番号（公開出願番号）：特開2004-103512
出願日： 2002年09月12日
公開日（公表日）： 2004年04月02日
要約：

【課題】有機EL素子の製造に際し、蒸着マスクのクリーニングを効率的に、かつ変形させることなく行う。【解決手段】有機EL素子の蒸着を行う成膜室中において、蒸着マスクを集束エネルギビームにより走査し、局所的な加熱を行うことにより、蒸着マスク上に堆積した堆積物を昇華・除去する。【選択図】 図4

請求項（抜粋）：

成膜室中において蒸着マスクを使って有機材料を蒸着する工程を含む有機EL素子の製造方法において、 前記蒸着マスク表面を集束エネルギビームにより局所的に加熱し、前記蒸着マスク上に堆積した堆積物を昇華させる工程を含み、 前記昇華工程は、前記集束エネルギビームにより前記蒸着マスク表面を走査する工程を含むことを特徴とする有機EL素子の製造方法。

IPC (5件)：

H05B33/10 ,  C23C14/00 ,  C23C14/12 ,  C23C14/24 ,  H05B33/14

FI (5件)：

H05B33/10 ,  C23C14/00 B ,  C23C14/12 ,  C23C14/24 G ,  H05B33/14 A

Fターム (10件)：

3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029AA24 ,  4K029BA62 ,  4K029BC07 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029DA09 ,  4K029HA01

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平3-188269
  
• 有機蒸着装置及び有機薄膜製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-044691   出願人：株式会社アルバック
• 特開平3-188269