特許
J-GLOBAL ID:200903013339254443

プラズマ溶射酸素輸送膜

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 倉内 基弘 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-041249
公開番号(公開出願番号):特開2003-253417
出願日: 2002年02月19日
公開日(公表日): 2003年09月10日
要約:
【要約】【課題】 酸素及び水素輸送膜をプラズマ溶射被覆により基材上に形成する。また、開示されるのは、多孔性基材と超音速プラズマ溶射被覆により提供された皮膜とを含む多層複合材である。さらに、開示されるのは、単一相又は二相のナノ結晶質粒子をプラズマ溶射被覆して亀裂のない酸素輸送膜を基材上に形成することである。【解決手段】 プラズマ媒体としての不活性ガスの存在下に、単一又は二相の組成物をプラズマの形態でプラズマトーチ又はプラズマガンから超音速で溶射すること及び酸素輸送膜を微少亀裂のないセラミック皮膜の形状で基材上に提供するために前記組成物を多孔性又は高密度基材上に被覆することを含む方法によりイオン若しくは電子又は混合イオン及び電子伝導性膜を製造する。
請求項(抜粋):
プラズマ媒体としての不活性ガスの存在下に、単一又は二相の組成物をプラズマの形態でプラズマトーチ又はプラズマガンから超音速で溶射し、前記組成物を多孔質又はち密な基材上に被着させて酸素輸送膜を微少亀裂のないセラミック皮膜の形状でその基材上に提供することを含むイオン若しくは電子伝導性の又は混合イオン電子伝導性の膜を製造するための方法。
IPC (10件):
C23C 4/04 ,  B01D 53/22 ,  B01D 71/02 500 ,  B01J 19/08 ,  C01F 5/02 ,  C23C 4/12 ,  H01B 1/06 ,  H01M 8/02 ,  H01M 8/12 ,  H01B 5/14
FI (10件):
C23C 4/04 ,  B01D 53/22 ,  B01D 71/02 500 ,  B01J 19/08 H ,  C01F 5/02 ,  C23C 4/12 ,  H01B 1/06 A ,  H01M 8/02 K ,  H01M 8/12 ,  H01B 5/14 Z
Fターム (50件):
4D006GA41 ,  4D006MA06 ,  4D006MA31 ,  4D006MC03X ,  4D006NA45 ,  4D006NA50 ,  4D006PA01 ,  4D006PB62 ,  4D006PB66 ,  4D006PC71 ,  4G075AA24 ,  4G075AA27 ,  4G075AA30 ,  4G075BC10 ,  4G075CA63 ,  4G075CA80 ,  4G075DA18 ,  4G075EB43 ,  4G075FB02 ,  4G075FB04 ,  4G076AA02 ,  4G076AB02 ,  4G076BF05 ,  4G076CA12 ,  4G076DA30 ,  4K031AA01 ,  4K031AB03 ,  4K031CB09 ,  4K031CB18 ,  4K031CB42 ,  4K031CB49 ,  4K031DA01 ,  4K031DA04 ,  4K031EA07 ,  5G301CA02 ,  5G301CA08 ,  5G301CD01 ,  5G301CE01 ,  5G307GA05 ,  5G307GA06 ,  5G307GA08 ,  5G307GC02 ,  5H026AA06 ,  5H026BB01 ,  5H026BB04 ,  5H026CX04 ,  5H026EE02 ,  5H026EE11 ,  5H026HH01 ,  5H026HH03
引用特許:
審査官引用 (6件)
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