特許
J-GLOBAL ID:200903013345435778

乾燥装置及び乾燥方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-197282
公開番号(公開出願番号):特開2001-336878
出願日: 2000年05月29日
公開日(公表日): 2001年12月07日
要約:
【要約】【課題】最適な波長の遠赤外線及び最適な照射量の紫外線を被乾燥物体に有効的に、及び効率的に被乾燥物体に放射することができ、よって、被乾燥物体の種類や厚さにかかわずに被乾燥物体を変形することなく、歩留り良くかつ乾燥に要する時間を短縮する。【解決手段】乾燥装置は、遠赤外線放射装置と、紫外線照射装置を備える。遠赤外線放射装置において、遠赤外線放射体は、搬送路を挟んで上下側の位置にそれぞれ複数個配設され、かつ互いにずらして設けられる。遠赤外線放射装置の乾燥室内の温度、遠赤外線放射の放射時間、遠赤外線放射体の表面温度、遠赤外線放射体と被乾燥物体との距離を制御して被乾燥物体の表面温度を約180°C〜約250°Cに設定めるする。被乾燥物体は、紫外線照射装置に入る前に約80°C〜約180°Cに冷却される。紫外線照射体から照射される紫外線の照射量は、約200mJ/cm2以上、好ましくは約300mJ/cm2〜約800mJ/cm2である。
請求項(抜粋):
被乾燥物体を搬送するための搬送路体と;前記搬送路を挟んで上側及び又は下側の位置にそれぞれ複数個配設された遠赤外線放射体と;被乾燥物体と前記遠赤外線放射体との距離を可変するための昇降装置と;前記遠赤外線から放射される遠赤外線によって被乾燥物体を乾燥させるための乾燥室と;前記遠赤外線放射体から発生する熱によって昇温される温風を循環するための温風循環経路と;乾燥室内の温度、遠赤外線放射の放射時間、遠赤外線放射体の表面温度、遠赤外線放射体と被乾燥物体との距離を制御して前記乾燥室内の被乾燥物体の表面温度を約180°C〜約250°Cするための制御装置と、を備える遠赤外線放射装置を有する乾燥装置。
IPC (5件):
F26B 3/30 ,  F26B 15/00 ,  F26B 23/04 ,  F26B 25/00 ,  G21K 5/00
FI (5件):
F26B 3/30 ,  F26B 15/00 A ,  F26B 23/04 B ,  F26B 25/00 A ,  G21K 5/00 Z
Fターム (16件):
3L113AA02 ,  3L113AB02 ,  3L113AB06 ,  3L113AC10 ,  3L113AC11 ,  3L113AC54 ,  3L113AC67 ,  3L113BA34 ,  3L113CA04 ,  3L113CA20 ,  3L113CB06 ,  3L113CB35 ,  3L113CB40 ,  3L113DA04 ,  3L113DA10 ,  3L113DA24

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