特許
J-GLOBAL ID：200903013351664134
イオン散乱分析装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
本庄 武男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-150904
公開番号（公開出願番号）：特開平8-017392
出願日： 1994年07月01日
公開日（公表日）： 1996年01月19日
要約：
【要約】【目的】 本発明は,イオン散乱分析装置に係り,試料表面で散乱された後方散乱粒子の内,イオンと中性粒子とを各別に精度の良い分析を行い得るようにすることを目的とする。【構成】 イオンビーム発生装置10から照射されたイオンビーム11はウィーンフィルタ15内でその軌道が曲げられ,試料17の表面に照射される。この試料17の表面に照射されたイオンビーム11は,後方散乱されてその内の中性粒子24が上記ウィーンフィルタ15内を直進して検出器27により検出される。他方,後方散乱されたイオン23は,上記ウィーンフィルタ15内でその軌道を曲げられ,検出器25により検出される。このようにイオン23と中性粒子24の各軌道を相対的に偏向させて各別に検出することにより,精度の良い分析を行うことができる。
請求項（抜粋）：
イオン源からのイオンビームを試料表面に照射してこの試料表面で散乱された後方散乱粒子を検出し,上記試料表面の分析を行うイオン散乱分析装置において,上記試料表面で散乱された後方散乱粒子の内,後方散乱イオンと後方散乱中性粒子の各軌道を相対的に偏向させる偏向手段を設けると共に,上記後方散乱イオンを検出する第1の検出手段及び上記後方散乱中性粒子を検出する第2の検出手段を配設したことを特徴とするイオン散乱分析装置。
IPC (4件)：
H01J 49/48
, H01J 37/05
, H01J 37/244
, H01J 49/06
