特許
J-GLOBAL ID:200903013352281921
ラップ盤
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
恩田 博宣 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-251332
公開番号(公開出願番号):特開2002-059360
出願日: 2000年08月22日
公開日(公表日): 2002年02月26日
要約:
【要約】【課題】 ワークの熱変形を防止し、ラップ加工時間の短縮化を図れるラップ盤を提供する。【解決手段】 回転可能なテーブル11上に固定された定盤12と、ワークWとの間に介在する砥石13でワークWをラップ加工するラップ盤において、定盤12に冷却水用流路50が設けられている。ラップ加工中に冷却水を冷却水用流路50に流すことにより、定盤12が冷却され、砥石13が定盤12により常に冷却される。このため、テーブル11と定盤12の回転を高速化しても、ラップ加工中におけるラップ加工部の発熱が抑制され、ワークWの熱変形が低減される。
請求項(抜粋):
回転可能なテーブル上に固定された定盤と、ワークとの間に介在する砥粒でワークをラップ加工するラップ盤において、前記定盤に、該定盤を冷却する定盤用冷却手段を設けたことを特徴とするラップ盤。
IPC (4件):
B24B 37/00
, B24B 37/04
, G11B 7/26 521
, H01L 21/304 622
FI (4件):
B24B 37/00 J
, B24B 37/04 A
, G11B 7/26 521
, H01L 21/304 622 F
Fターム (14件):
3C058AA04
, 3C058AA07
, 3C058AA19
, 3C058AB04
, 3C058AC04
, 3C058BA05
, 3C058BA08
, 3C058CA06
, 3C058CB01
, 3C058CB03
, 5D121AA02
, 5D121DD13
, 5D121GG22
, 5D121GG28
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