特許
J-GLOBAL ID：200903013352550280
薄膜磁気ヘッドのポリッシング法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-115166
公開番号（公開出願番号）：特開平6-304860
出願日： 1993年04月20日
公開日（公表日）： 1994年11月01日
要約：
【要約】【目的】薄膜磁気ヘッドの浮動面のポリッシング加工において、ポールリセッションを低減し、定盤の工具寿命を半永久的にするポリッシング法を提供すること。【構成】錫製のポリッシング定盤21のポリッシング基準面22に、溝幅0.3mm以内,溝間隔ピッチ0.4mm以内の細目の螺旋状溝23と定盤半径方向に放射状で前記螺旋状溝と交差する放射状溝24とを設け、遊離砥粒を含有させたポリッシング液11をポリッシング基準面22に供給しながら薄膜磁気ヘッドの浮動面をポリッシングする。
請求項（抜粋）：
浮動面を有する薄膜磁気ヘッドの製造における浮動面の最終仕上げポリッシング法において、ポリッシング定盤のポリッシング基準面に、溝を設けたポリッシング定盤を用いて、遊離砥粒を含有させたポリッシング液を、該ポリッシング定盤のポリッシング基準面に供給しながら、薄膜磁気ヘッドの浮動面をポリッシングすることを特徴とする薄膜磁気ヘッドのポリッシング法。
IPC (2件)：
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