特許

J-GLOBAL ID：200903013355772527

回折光学素子の離型方法及び離型装置

発明者： 中林 正明
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 大塚 康徳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-203770
公開番号（公開出願番号）：特開2003-011140
出願日： 2001年07月04日
公開日（公表日）： 2003年01月15日
要約：

【要約】【課題】離型による変形や破損のない回折光学素子を安定に量産することを可能にする回折光学素子の離型方法を提供する。【解決手段】型を用いて成形した凸レンズ機能を有する回折光学素子を、型から離型するための回折光学素子の離型方法であって、回折光学素子の中心部を型に向かって押さえ付ける押さえ工程と、回折光学素子の外周部を型から離れる方向に押して、回折光学素子の外周部から中心部に向かって離型を進行させる離型工程とを具備する。また、中心の押さえをせず、複数の油圧シリンダーでバランスを調整して、中心に向かう離型を進行させる離型工程を具備する。

請求項（抜粋）：

型を用いて成形した凸レンズ機能を有する回折光学素子を、前記型から離型するための回折光学素子の離型方法であって、前記回折光学素子の中心部を前記型に向かって押さえ付ける押さえ工程と、前記回折光学素子の外周部を前記型から離れる方向に押して、前記回折光学素子の外周部から中心部に向かって離型を進行させる離型工程とを具備することを特徴とする回折光学素子の離型方法。

IPC (4件)：

B29C 39/26 ,  B29C 39/10 ,  G02B 5/18 ,  B29L 11:00

FI (4件)：

B29C 39/26 ,  B29C 39/10 ,  G02B 5/18 ,  B29L 11:00

Fターム (23件)：

2H049AA04 ,  2H049AA14 ,  2H049AA40 ,  2H049AA43 ,  2H049AA51 ,  2H049AA61 ,  2H049AA63 ,  2H049AA64 ,  4F202AH73 ,  4F202CA01 ,  4F202CB01 ,  4F202CK07 ,  4F202CM02 ,  4F204AD04 ,  4F204AD05 ,  4F204AG03 ,  4F204AH73 ,  4F204EA03 ,  4F204EA04 ,  4F204EB11 ,  4F204EK17 ,  4F204EK24 ,  4F204EK25