基板処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小谷悦司 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-031034
公開番号（公開出願番号）：特開平9-232268
出願日： 1996年02月19日
公開日（公表日）： 1997年09月05日
要約：

【要約】【課題】構造が簡単であるとともに、基板の幅寸法に拘らず適量の処理液を基板に供給して処理ができるようにする。【解決手段】搬送方向に所定の間隔で傾斜した回転軸を有する搬送ローラ50が並設された基板搬送装置5と、上記併設された搬送ローラ50の間において基板Bの搬送方向と直交する方向に設けられた支持軸61で回動可能に支持されるとともに搬送される基板Bの下位端縁を支持するサイドローラ64を備えた位置保持手段6と、上記基板Bの上位側位置で基板Bの搬送方向に沿って配置され基板Bの表面に処理液を供給するリキッドナイフ31bとを備えている。位置保持手段6は、基板搬送装置5により搬送される基板Bの幅寸法に応じて基板Bの上位側位置を一致させるべく、搬送ローラ50と平行な方向へ移動可能に設けられている。

請求項（抜粋）：

搬送方向に所定の間隔で傾斜した回転軸を有する搬送ロ-ラが並設された基板搬送手段と、上記併設された搬送ロ-ラの間において基板の搬送方向と直交する方向に設けられた支持軸で回動可能に支持されるとともに搬送される基板の下位端縁を支持する回転体を備えた位置保持手段と、上記基板の上位側位置で基板の搬送方向に沿って配置され基板の表面に処理液を供給する処理液供給手段とを備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/304 341 , H01L 21/304 , B08B 3/02 , H01L 21/68

FI (5件)：

H01L 21/304 341 N , H01L 21/304 341 C , B08B 3/02 B , B08B 3/02 Z , H01L 21/68 A

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