特許
J-GLOBAL ID：200903013357490995
浄化槽
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
下田 容一郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-101355
公開番号（公開出願番号）：特開平7-308683
出願日： 1994年05月16日
公開日（公表日）： 1995年11月28日
要約：
【要約】【目的】 メンテナンスフリーの浄化槽を提供する。【構成】 汚泥濃縮装置12は、上面が汚泥貯留槽12内の最低水位(L.W.L.)よりも下方となるようにケース13を浸漬し、このケース13上面に濾過スクリーン14を設け、またケース13上に上端が最高水位(H.W.L.)よりも高い位置となるフレーム15を立設し、このフレーム15の上端にモータ16を固着し、このモータ16によって濾過スクリーン14上面に接触若しくは微細な隙間を形成して配置されるブレード17を回転せしめるようにし、また、汚泥濃縮装置12のケース13の隔壁3に沿った部分にはエアリフト18を設けている。
請求項（抜粋）：
微生物によって原液を生物的に処理する生物反応槽と原液中あるいは生物反応槽内で発生した汚泥を貯留する汚泥貯留槽とを備えた浄化槽において、前記汚泥貯留槽内には汚泥濃縮装置が設けられ、この汚泥濃縮装置は上面が汚泥貯留槽内の最低水位よりも下方となるように汚泥貯留槽内に浸漬されたケースと、このケース上面に設けられる濾過スクリーンと、この濾過スクリーン上に堆積した濃縮汚泥を掻き取って汚泥貯留槽内に戻すブレードと、前記濾過スクリーンの上面側から下面側に向けて液が透過すべくこれらの間に圧力差を形成する圧力差形成手段と、濾過スクリーンを透過した液を生物反応槽に供給する透過液供給手段とからなることを特徴とする浄化槽。
IPC (3件)：
C02F 3/00 ZAB
, C02F 1/44 ZAB
, C02F 11/00
