特許
J-GLOBAL ID：200903013360774147
パターン形成方法、パターン形成装置、パターン形成用版およびパターン形成用版の製造方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-144892
公開番号（公開出願番号）：特開平11-334048
出願日： 1998年05月26日
公開日（公表日）： 1999年12月07日
要約：
【要約】【課題】 大きな設備を用いることなく安価にパターンを形成可能とする。【解決手段】 版(1)をパターン形成面に密着させて流動体(62)によるパターンをパターン形成面(111)上に形成するものである。版(1)をパターン形成面(111)に密着させるステップと、流動体(62)を供給するために版(1)のパターン転写領域(10)に複数設けられた貫通穴(12)に流動体(62)を供給するステップと、貫通穴(12)を介してパターン形成面(111)に流動体(62)が付着した後に版(1)をパターン形成面(111)から剥離するステップと、を備えている。
請求項（抜粋）：
版をパターン形成面に密着させて流動体によるパターンを前記パターン形成面上に形成するパターン形成方法であって、前記版を前記パターン形成面に密着させるステップと、前記流動体を供給するために前記版のパターン転写領域に複数設けられた貫通穴に前記流動体を供給するステップと、前記貫通穴を介して前記パターン形成面に前記流動体が付着した後に当該版を前記パターン形成面から剥離するステップと、を備えたことを特徴とするパターン形成方法。
IPC (8件)：
B41J 2/01
, B41M 1/12
, H05K 3/10
, B41F 17/14
, G02F 1/1335 500
, G02F 1/1343
, G03F 7/34
, H01L 21/30
B41J 3/04 101 Z
, B41M 1/12
, H05K 3/10 D
, B41F 17/14 E
, G02F 1/1335 500
, G02F 1/1343
, G03F 7/34
, H01L 21/30
