特許
J-GLOBAL ID：200903013364910142
デバイス生産装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大塚 康徳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-111797
公開番号（公開出願番号）：特開2002-313690
出願日： 2001年04月10日
公開日（公表日）： 2002年10月25日
要約：
【要約】【課題】装置カバーを開けた作業時において、作業者や装置からの発塵を装置内に拡散させることなく迅速に除去することができるデバイス生産装置を提供する。【解決手段】生産装置をカバーする装置カバー13と、装置カバーに開閉可能に設けられた開閉カバー14と、開閉カバーの開閉状態を検出するための検出センサ15と、生産装置の上方に設けられ装置カバーで囲まれた空間に給気するためのファンf1〜f3と、生産装置の下方の床面に設けられ装置カバーで囲まれた空間から排気するための開口部と、開口部の開口率を変更するためのシャッターp1〜p4と、検出センサ15の検出結果に基づいて、ファンにより供給される気体の流速と、シャッターの開口率を変更するための切り替え制御装置100とを具備する。
請求項（抜粋）：
生産装置をカバーする装置カバーと、該装置カバーに開閉可能に設けられた開閉カバーと、該開閉カバーの開閉状態を検出するための検出センサと、前記生産装置の上方に設けられ前記装置カバーで囲まれた空間に給気するための給気手段と、前記生産装置の下方の床面に設けられ前記装置カバーで囲まれた空間から排気するための排気手段と、該排気手段の開口部の開口率を変更するためのシャッターと、前記検出センサの検出結果に基づいて、前記給気手段により供給される気流と、前記シャッターの開口率を変更するための変更手段とを具備することを特徴とするデバイス生産装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/02 D
, F24F 7/06 C
3L058BE01
, 3L058BE02
, 3L058BG04
