特許

J-GLOBAL ID：200903013365995460

含フツ素有機ケイ素化合物およびその製造方法

発明者： 木下 博文 ,  山口 浩一 ,  菅沼 秀司
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 岩見谷 周志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-298321
公開番号（公開出願番号）：特開平5-112581
出願日： 1991年10月17日
公開日（公表日）： 1993年05月07日
要約：

【要約】【構成】 下記の一般式:【化1】(式中、Rは炭素原子数1〜6のアルキル基を表し、2個のRが存在する場合にはそれらは同一でも異なってもよく、aは1〜7の整数を表し、bは2〜8の整数を表し、cは1〜3の整数を表す。)で表される含フッ素有機ケイ素化合物。【効果】 本発明によれば、シリカの表面処理剤、レジストの密着性向上剤、撥水性または撥油性処理剤、種々のシリコーン化合物合成の原料として有用である、新規な含フッ素有機ケイ素化合物が提供される。

請求項（抜粋）：

下記の一般式(1):【化1】(式中、Rは炭素原子数1〜6のアルキル基を表し、2個のRが存在する場合にはそれらは同一でも異なってもよく、aは1〜7の整数を表し、bは2〜8の整数を表し、cは1〜3の整数を表す。)で表される含フッ素有機ケイ素化合物。

IPC (4件)：

C07F 7/12 ,  B01J 23/40 ,  C07F 7/14 ,  C07B 61/00 300