エッチング法及びその装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-009002
公開番号（公開出願番号）：特開平5-198541
出願日： 1992年01月22日
公開日（公表日）： 1993年08月06日
要約：

【要約】【目的】フッ化水素ガスによるシリコン酸化膜エッチングにおいて、その反応速度の制御性を向上させる。【構成】エッチャントガスを正確に間歇供給する。エッチャントガス供給条件をエッチング進行とともにより適切にものに変える。【効果】上記手段により、指数関数的に進行する当該エッチング反応の速度を抑えることができ、制御性が向上する。また、エッチャントをより効率的に使用するので、エッチャント消費量を低減できる。

請求項（抜粋）：

二酸化シリコンのフッ化水素ガスによるエッチングにおいて、エッチャントであるフッ化水素ガスの供給を間歇的に行うことを特徴とするエッチング法。

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