特許
J-GLOBAL ID：200903013374111949
露光パターンデータの補正方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
有我 軍一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-233600
公開番号（公開出願番号）：特開平7-094376
出願日： 1993年09月20日
公開日（公表日）： 1995年04月07日
要約：
【要約】【目的】第1の補正処理と第2の補正処理の関係を適正化することにより、機種依存性の少ない露光パターンデータの補正方法を提供すること。【構成】露光パターンデータを構成する様々な大きさの矩形パターン又は非矩形パターンに対し、露光装置の露光エネルギー及び露光時間並びに露光パターンの大きさ及び間隔を考慮した第1の補正処理(近接効果補正処理)を行い、次に、露光対象の試料表面における熱的影響を考慮した第2の補正処理(つなぎ補正処理)を行う補正方法において、第1の補正処理を行う前のパターンデータに対して第2の補正処理を行い、且つ、第2の補正処理を行った後のパターンデータに対して第2の補正処理を行う前のパターンデータに対する第1の補正処理の補正量を適用することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
露光パターンデータを構成する様々な大きさの矩形パターン又は非矩形パターンに対し、露光装置の露光エネルギー及び露光時間並びに露光パターンデータの大きさ及び間隔を考慮した第1の補正処理(10)を行い、次に、露光対象の試料表面における熱的影響を考慮した第2の補正処理(11)を行う補正方法において、第1の補正処理(10)を行う前のパターンデータに対して第2の補正処理(11)を行い、且つ、第2の補正処理(11)を行った後のパターンデータに対して第2の補正処理(11)を行う前のパターンデータに対する第1の補正処理(10)の補正量を適用することを特徴とする露光パターンデータの補正方法。
引用特許：
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