特許
J-GLOBAL ID:200903013384037135
粒度分布制御晶析法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
霜越 正夫 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-073948
公開番号(公開出願番号):特開平11-267402
出願日: 1998年03月23日
公開日(公表日): 1999年10月05日
要約:
【要約】【課題】 従来の方法の欠点を免れた、優れた粒度分布制御晶析法の提供。【解決手段】 真空濃縮晶析法により結晶を析出せしめるに際し、晶析母液の濃縮中、スラリーの温度を周期的に上下させることを特徴とする粒度分布制御晶析法。
請求項(抜粋):
真空濃縮晶析法により結晶を析出せしめるに際し、晶析母液の濃縮中、スラリーの温度を周期的に上下させることを特徴とする粒度分布制御晶析法。
IPC (5件):
B01D 9/02 625
, B01D 9/02 601
, B01D 9/02 602
, B01D 9/02 604
, B01D 9/02 611
FI (5件):
B01D 9/02 625 E
, B01D 9/02 601 G
, B01D 9/02 602 C
, B01D 9/02 604
, B01D 9/02 611 Z
引用特許:
審査官引用 (3件)
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晶析装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-036165
出願人:石川島播磨重工業株式会社
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特開昭62-247802
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特公昭49-029821
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