特許

J-GLOBAL ID：200903013386331120

露光装置、及び該装置を用いるデバイス製造方法

発明者： 神谷 三郎
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 前田 均 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-259147
公開番号（公開出願番号）：特開2001-160535
出願日： 2000年08月29日
公開日（公表日）： 2001年06月12日
要約：

【要約】【課題】オートフォーカス系の変動を高速かつ高精度に補正できる露光装置を提供する。【解決手段】マスク1に形成されたパターンの像を投影光学系3を介して基板5に転写する露光装置において、基板を保持する基板テーブル8と、基板テーブルに保持された基板表面と焦点位置とのギャップを測定する第1センサ10a,10bと、投影光学系と基板テーブルとの光軸方向の距離を測定し、第1センサ10a,10bの焦点位置(制御目標位置)を補正する第2センサ20を備えるようにした。

請求項（抜粋）：

マスクに形成されたパターンの像を投影光学系を介して基板に転写する露光装置において、前記基板を保持する基板テーブルと、前記基板テーブルに保持された前記基板表面と焦点位置とのギャップを測定する第1センサと、前記投影光学系と前記基板テーブルとの光軸方向の距離を測定し、前記第1センサの焦点位置を補正する第2センサと、を備えたことを特徴とする露光装置。

IPC (7件)：

H01L 21/027 ,  G01B 9/02 ,  G02B 7/28 ,  G02B 13/18 ,  G02B 17/08 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/02

FI (7件)：

G01B 9/02 ,  G02B 13/18 ,  G02B 17/08 Z ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/02 H ,  H01L 21/30 516 A ,  G02B 7/11 M

Fターム (26件)：

2F064AA01 ,  2F064BB05 ,  2F064EE09 ,  2F064FF01 ,  2F064GG16 ,  2F064GG22 ,  2F064GG23 ,  2F064GG38 ,  2F064HH01 ,  2F064JJ01 ,  2H051AA10 ,  2H051BA72 ,  2H051CB14 ,  2H087KA21 ,  2H087RA03 ,  2H087RA12 ,  2H087RA13 ,  2H087RA32 ,  2H087TA01 ,  2H087TA05 ,  5F046BA03 ,  5F046CB17 ,  5F046CB25 ,  5F046DA14 ,  5F046DB05 ,  5F046DB10