特許

J-GLOBAL ID：200903013409802737

光デイスクの製造方法

発明者： 山下 栄輝 ,  白井 良男
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 小池 晃 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-230764
公開番号（公開出願番号）：特開平5-047051
出願日： 1991年08月19日
公開日（公表日）： 1993年02月26日
要約：

【要約】【構成】 2P法によってスタンパの凹凸パターンをディスク基板6面に転写するに際し、スタンパ10の外径をディスク基板6の外径よりも小さくするとともに、紫外線硬化樹脂9にスタンパを密着させた後、真空吸引によってディスク基板6の回りにはみ出た紫外線硬化樹脂を除去する。【効果】 ディスク基板6の回りに紫外線硬化樹脂がバリとして残存することがなく、内外径の精度が高いディスク基板が得られる。また、記録膜、反射膜を成膜するためのスパッタリングも良好な条件で行うことができる。

請求項（抜粋）：

ディスク基板の基板面に紫外線硬化樹脂を塗布した後、該紫外線硬化樹脂に凹凸パターンが形成されたスタンパを密着させて紫外線を照射し、光重合により硬化してスタンパの凹凸パターンを転写する光ディスクの製造方法において、上記スタンパの外径を上記ディスク基板の外径よりも小さくするとともに、紫外線硬化樹脂にスタンパを密着させた後、真空吸引によってディスク基板の回りにはみ出た余剰の紫外線硬化樹脂を除去することを特徴とする光ディスクの製造方法。