特許
J-GLOBAL ID:200903013416454612

ダイヤモンドライクカーボン膜の成膜法および成膜装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 田澤 博昭 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-021958
公開番号(公開出願番号):特開平8-217596
出願日: 1995年02月09日
公開日(公表日): 1996年08月27日
要約:
【要約】【目的】 剥離しにくく付着力の高いダイヤモンドライクカーボン膜(DLC膜)を基材に形成するDLC膜の成膜法および成膜装置を得ることを目的とする。【構成】 DLC膜と線膨脹係数差の大きい基材にDLC膜を形成する成膜法において、基材表面温度が一定になるまで基材をプラズマ洗浄工程41と、RF供給を停止しないで洗浄用ガスと成膜反応ガス交換工程43と、基材上にプラズマCVD法によりDLC膜形成工程42を備え、これらの工程41,43,42において自己バイアスと放電電流の積は一定である。基材表面温度が一定に保たれるので剥離が防止できる。
請求項(抜粋):
基材表面温度が一定になるまで基材の表面をプラズマ洗浄するプラズマ洗浄工程と、プラズマ洗浄された前記基材上にプラズマCVD法によりダイヤモンドライクカーボン膜を形成する膜形成工程とを備えたダイヤモンドライクカーボン膜の成膜法。
IPC (4件):
C30B 29/04 ,  C23C 16/26 ,  C23C 16/50 ,  C30B 25/02
FI (4件):
C30B 29/04 B ,  C23C 16/26 ,  C23C 16/50 ,  C30B 25/02 P

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