特許

J-GLOBAL ID：200903013426034107

有機EL素子の製造方法、及び該方法を用いて製造した有機EL素子

発明者： 加藤 拓司 ,  岡田 崇
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (1件)： 高野 明近 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-382511
公開番号（公開出願番号）：特開2002-184572
出願日： 2000年12月15日
公開日（公表日）： 2002年06月28日
要約：

【要約】【課題】 有機EL素子の耐久性を向上させる。【解決手段】 有機EL素子は、透明支持体1の表面に有機物を含む紫外線吸収層5を形成し、この上に陽極層2、単数または複数層の有機化合物層3、及び陰極層4を順に積層して構成される。上記の紫外線吸収層5を備えることにより、有機化合物層3の劣化を防ぐことができ、これにより有機EL素子の耐久性を向上さえることがでる。紫外線吸収層3としては、N-1置換アニリン誘導体を含む紫外線吸収層を形成することにより高い耐久性が得られる。このような紫外線吸収層5は、透明支持体1と陽極層2の間に設けてもよく、また透明支持体1における陽極層2の反対側に設けてもよい。また紫外線吸収層5の材料で、各電極部を封止する封止層5'を形成してもよく、また紫外線吸収層5にさらに保護層を形成してもよい。

請求項（抜粋）：

透明支持体上に陽極、陰極及び該陽極と陰極との間に挟持された単層または複数層の有機化合物層が設けられた構成を少なくとも有する有機EL素子の製造方法において、前記透明支持体の表面に有機物を含む紫外線吸収層を形成するステップと、該紫外線吸収層の上に前記陽極層、前記有機化合物層、及び前記陰極層を順に積層するステップとを有することを特徴とする有機EL素子の製造方法。

IPC (6件)：

H05B 33/10 ,  C09K 3/00 104 ,  H05B 33/02 ,  H05B 33/04 ,  H05B 33/14 ,  H05B 33/22

FI (6件)：

H05B 33/10 ,  C09K 3/00 104 Z ,  H05B 33/02 ,  H05B 33/04 ,  H05B 33/14 A ,  H05B 33/22 Z

Fターム (15件)：

3K007AB11 ,  3K007AB18 ,  3K007BB01 ,  3K007BB02 ,  3K007BB05 ,  3K007BB06 ,  3K007CA05 ,  3K007CA06 ,  3K007CB01 ,  3K007DA01 ,  3K007DB03 ,  3K007EA01 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01 ,  3K007FA02