特許

J-GLOBAL ID：200903013430233769

研磨用組成物

発明者： 鈴 村 聡 ,  玉 井 一 誠
出願人/特許権者： 株式会社フジミインコーポレーテッド
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-244333
公開番号（公開出願番号）：特開平11-080708
出願日： 1997年09月09日
公開日（公表日）： 1999年03月26日
要約：

【要約】【課題】 研磨速度が大きく、均一性が優れた研磨面を形成させることができる研磨用組成物の提供。【解決手段】(1)水、(2)研磨材、(3)硝酸、亜硝酸、塩酸、過塩素酸、塩素酸、亜塩素酸、次亜塩素酸、ホウ酸、過ホウ酸、硫酸、亜硫酸、過硫酸、リン酸、亜リン酸、次亜リン酸、ケイ酸、有機酸、およびそれらの水素酸のイオン、またはそれらの混合物、からなる群から選ばれる、少なくとも1種類の陰イオン、(4)アンモニウムイオン、アルカリ金属イオン、およびアルカリ土類金属イオンからなる群から選ばれる、少なくとも1種類の陽イオン。を含んでなる研磨用組成物であって、(4)の陽イオンの総量が0.001〜0.15モル/リットルであることを特徴とする研磨用組成物。

請求項（抜粋）：

(1)水、(2)研磨材、(3)硝酸、亜硝酸、塩酸、過塩素酸、塩素酸、亜塩素酸、次亜塩素酸、ホウ酸、過ホウ酸、硫酸、亜硫酸、過硫酸、リン酸、亜リン酸、次亜リン酸、ケイ酸、有機酸、およびそれらの水素酸のイオン、またはそれらの混合物、からなる群から選ばれる、少なくとも1種類の陰イオン、(4)アンモニウムイオン、アルカリ金属イオン、およびアルカリ土類金属イオンからなる群から選ばれる、少なくとも1種類の陽イオン。を含んでなる研磨用組成物であって、(4)の陽イオンの総量が0.001〜0.15モル/リットルであることを特徴とする研磨用組成物。

IPC (7件)：

C09K 3/14 550 ,  C09K 3/14 ,  B24B 37/00 ,  C09K 13/04 101 ,  C09K 13/04 102 ,  H01L 21/304 321 ,  G11B 5/84

FI (7件)：

C09K 3/14 550 D ,  C09K 3/14 550 Z ,  B24B 37/00 H ,  C09K 13/04 101 ,  C09K 13/04 102 ,  H01L 21/304 321 P ,  G11B 5/84 A