特許
J-GLOBAL ID:200903013436344732

液晶表示装置用電極基板の製造方法およびそれを用いた液晶表示装置

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-141728
公開番号(公開出願番号):特開平8-334755
出願日: 1995年06月08日
公開日(公表日): 1996年12月17日
要約:
【要約】【目的】アクティブマトリクス型液晶表示装置に用いられる電極基板の製造方法、および、本発明の製造方法により製造された電極基板を用いた液晶表示装置に関する。【構成】薄膜トランジスタ形成電極基板上に紫外線硬化型接着剤を施し、切り欠きを端部角部に形成されたカラーフィルターを持つ転写シートを用いて、前記電極基板上にカラーフィルターを転写形成し、前記電極基板の薄膜トランジスタ形成面側に、所定の形状にパターニングされ、カラーフィルターの前記切り欠き部より一部露出したドレイン電極部位と電気的に接続した、透明導電膜よりなる画素電極を形成し、少なくとも前記薄膜トランジスタおよび配線を覆う遮光膜を所望の形状にて形成することを特徴とするアクティブマトリクス型液晶表示装置用電極基板の製造方法。
請求項(抜粋):
?@ 透明基板上に少なくとも薄膜トランジスタからなる素子、および、配線が形成された薄膜トランジスタ形成電極基板の薄膜トランジスタ形成面側に、硬化した時点で透明である非加熱紫外線硬化型接着剤を施し、?A 前記薄膜トランジスタのドレイン電極を一部露出させる切り欠きを端部角部に形成されたカラーフィルターを支持シート上に持つ転写シートを、前記カラーフィルターと薄膜トランジスタ形成面とを対向させて貼り合わせ、しかる後、前記電極基板の薄膜トランジスタ非形成面側から紫外線を照射し、前記電極基板の光透過部上の接着剤を光硬化させた後、支持シートを剥がすことで前記電極基板上にカラーフィルターを転写形成し、?B 前記素子および配線上の未露光未硬化の接着剤を除去した後、前記電極基板の薄膜トランジスタ形成面側全面に透明導電膜を形成後、これを所定の形状にパターニングし、カラーフィルターの前記切り欠き部より露出したドレイン電極部位と電気的に接続した、透明導電膜よりなる画素電極を形成し、?C 少なくとも前記薄膜トランジスタ領域および配線領域を覆う遮光膜を所望の形状にて形成し、?D 前記薄膜トランジスタ形成電極基板の薄膜トランジスタ形成面側に保護膜を形成する、上記?@〜?Dの工程を具備することを特徴とするアクティブマトリクス型液晶表示装置用電極基板の製造方法。
IPC (2件):
G02F 1/1335 505 ,  G02B 5/20
FI (2件):
G02F 1/1335 505 ,  G02B 5/20

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