特許

J-GLOBAL ID：200903013442212341

高純度ニトロ化合物の製造方法

発明者： 廣田 幸逸
出願人/特許権者： 株式会社日本触媒
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-274322
公開番号（公開出願番号）：特開2002-088028
出願日： 2000年09月11日
公開日（公表日）： 2002年03月27日
要約：

【要約】【課題】 不純物を含む2,4,5-トリフルオロ-3-メチル安息香酸などのハロゲン化合物をそのまま出発原料として用い、しかも2,4,5-トリフルオロ-3-メチル-6-ニトロ安息香酸などの対応するニトロ化合物を高純度かつ高収率で製造する方法を提供する。【解決手段】 ニトロ化反応によって得られる粗ニトロ化合物(2,4,5-トリフルオロ-3-メチル-6-ニトロ安息香酸など)を水を用いて、再結晶および洗浄を行う。

請求項（抜粋）：

一般式(1)【化1】(式中、X1、X2、X3は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシル基であり、R1は水酸基、塩素原子、-CH(CO2R3)2、-CH2CO2R3または-C(=C-R4)CO2R3(ここで、R3はアルキル基、R4はアルコキシ基またはシクロプロピルアミノ基である。)であり、R2はアルキル基または-CH(R5)(R6)(ここで、R5、R6は、それぞれ独立して、シアノ基または-COOR7(ここで、R7はアルキル基である。))で表されるハロゲン化合物をニトロ化して一般式(2)【化2】(式中、X1、X2、X3、R1、R2は一般式(1)と同じである。)で表されるニトロ化合物を製造するにあたり、粗ニトロ化合物を水で精製することを特徴とする高純度ニトロ化合物の製造方法。

IPC (2件)：

C07C201/08 ,  C07C205/58

FI (2件)：

C07C201/08 ,  C07C205/58

Fターム (6件)：

4H006AA02 ,  4H006AC51 ,  4H006AD15 ,  4H006AD17 ,  4H006BB31 ,  4H006BE02