特許

J-GLOBAL ID：200903013442941980

パターン検査装置、パターン検査方法および露光装置ならびに電子装置の製造方法

発明者： 大川内 浩喜
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-355192
公開番号（公開出願番号）：特開2002-202107
出願日： 2000年11月22日
公開日（公表日）： 2002年07月19日
要約：

【要約】【課題】 段差のあるパターンであっても正確に検査できるようにすること。【解決手段】 本発明のパターン検査装置である重ね合わせ精度測定装置は、レーザ光源部1から出射されるレーザ光の周波数を異なる複数の周波数に分ける光周波数シフタ部2と、光周波数シフタ部2によって分けられた複数の周波数から成るレーザ光を検査対象のパターンに向けて集光する対物レンズなどの光学手段と、光学手段を介して検査対象のパターンへ照射された複数の周波数から成るレーザ光の反射光を受光する光検出部4と、光検出部4で受光した反射光に基づき検査対象のパターンの位置を解析する解析部6とを備えている。

請求項（抜粋）：

レーザ光源から出射されるレーザ光を周波数の異なる複数のレーザ光に分ける光周波数シフタと、前記光周波数シフタによって分けられた複数の周波数から成るレーザ光を検査対象のパターンに向けて集光する光学手段と、前記光学手段を介して前記検査対象のパターンへ照射された複数の周波数から成るレーザ光の反射光を受光する光検出部と、前記光検出部で受光した反射光に基づき前記検査対象のパターンの位置を解析する解析手段とを備えることを特徴とするパターン検査装置。

IPC (5件)：

G01B 11/00 ,  G03F 7/20 505 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/66

FI (6件)：

G01B 11/00 H ,  G01B 11/00 C ,  G03F 7/20 505 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/66 J ,  H01L 21/30 525 R

Fターム (48件)：

2F065AA03 ,  2F065AA07 ,  2F065AA12 ,  2F065AA14 ,  2F065AA54 ,  2F065BB01 ,  2F065CC19 ,  2F065DD03 ,  2F065DD06 ,  2F065DD09 ,  2F065FF01 ,  2F065FF04 ,  2F065GG04 ,  2F065GG23 ,  2F065HH04 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ01 ,  2F065JJ09 ,  2F065LL00 ,  2F065LL30 ,  2F065LL57 ,  2F065LL62 ,  2F065MM03 ,  2F065MM16 ,  2F065NN06 ,  2F065PP12 ,  2F065UU01 ,  2H097BB02 ,  2H097CA17 ,  2H097KA03 ,  2H097KA20 ,  2H097KA28 ,  4M106AA02 ,  4M106BA05 ,  4M106CA39 ,  4M106DB02 ,  4M106DB08 ,  4M106DB11 ,  4M106DB18 ,  4M106DJ04 ,  5F046BA04 ,  5F046EA04 ,  5F046EB07 ,  5F046FA05 ,  5F046FA06 ,  5F046FA09 ,  5F046FB08 ,  5F046FB20