特許
J-GLOBAL ID：200903013450724670
磁界印加機構及びその配置方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
北村 欣一 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-031641
公開番号（公開出願番号）：特開平11-229139
出願日： 1998年02月13日
公開日（公表日）： 1999年08月24日
要約：
【要約】【課題】 小型化された、基板面内で磁界が乱れることのないように配置された磁界印加手段としての磁界印加機構の提供。【解決手段】 複数の磁石対が、それぞれの磁石対の対向して設けられた磁石間に発生する中心の磁界と垂直になるようにかつ全ての中心の磁界が同一方向を向くように各磁石を配置して、同一真空室内に配設される。該中心の磁界は該磁石対の磁石間に設けられる基板の磁性膜形成面に対して平行になる。該磁石は全て、その高さの半分の位置が同一平面内になるようにかつ該磁石対の磁石間に設けられる基板の磁性膜形成面が該同一平面と同じ平面内になるように配置される。また、該複数個の磁石対は、その任意の磁石対が回転すると、他の全ての磁石対も同様に回転するように、基板を支持する支持体上に配設されている。
請求項（抜粋）：
複数の磁石対が、それぞれの磁石対の対向して設けられた磁石間に発生する中心の磁界と垂直になるようにかつ全ての中心の磁界が同一方向を向くように各磁石を配置して、同一真空室内に配設され、また該中心の磁界が該磁石対の磁石間に設けられる基板の磁性膜形成面に対して平行になるように各磁石が配置されていることを特徴とする磁界印加機構。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/35 B
, H01F 41/18
