特許
J-GLOBAL ID：200903013455437350
光学薄膜形成用単結晶基板
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-174691
公開番号（公開出願番号）：特開平6-191988
出願日： 1992年06月08日
公開日（公表日）： 1994年07月12日
要約：
【要約】【目的】 表面の結晶性を低下させることなく、加熱時での基板の反りを防止。【構成】 液相エピタキシャル成長法により、光学薄膜を形成するための光学単結晶基板であって、前記単結晶基板の表面および裏面は、共にメカノケミカルポリシングされた鏡面を有することを特徴とする光学薄膜形成用単結晶基板。
請求項（抜粋）：
液相エピタキシャル成長法により、光学薄膜を形成するための光学単結晶基板であって、前記単結晶基板の表面および裏面は、共にメカノケミカルポリシングされた鏡面を有することを特徴とする光学薄膜形成用単結晶基板。
IPC (2件)：
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