特許

J-GLOBAL ID：200903013456407935

酸化亜鉛微粒子の製造方法

発明者： 田中 隆夫 ,  三浦 一清 ,  高木 健 ,  永井 貴
出願人/特許権者： ハクスイテック株式会社
代理人 (1件)： 小池 信夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-031479
公開番号（公開出願番号）：特開2001-220136
出願日： 2000年02月09日
公開日（公表日）： 2001年08月14日
要約：

【要約】【課題】 可視光に対する透明性が高く、かつ紫外線遮蔽性に優れた酸化亜鉛微粒子の製造方法を提供する。【解決手段】 酸化亜鉛を含む水スラリー中に二酸化炭素ガスを導入して塩基性炭酸亜鉛を生成し、得られた塩基性炭酸亜鉛スラリーを流動層乾燥、媒体流動層乾燥、気流乾燥及又は噴霧乾燥し、乾燥された塩基性炭酸亜鉛を加熱分解し酸化亜鉛微粒子を得る。

請求項（抜粋）：

原料酸化亜鉛を含む水スラリー中に二酸化炭素ガスを導入し、塩基性炭酸亜鉛を生成する工程、得られた塩基性炭酸亜鉛を含むスラリーをそのまま流動層乾燥、媒体流動層乾燥、気流乾燥及又は噴霧乾燥する工程、及び当該乾燥された塩基性炭酸亜鉛を加熱分解し酸化亜鉛とする工程からなることを特徴とする酸化亜鉛微粒子の製造方法。

IPC (4件)：

C01G 9/02 ,  A61K 7/02 ,  A61K 7/42 ,  C09C 1/04

FI (4件)：

C01G 9/02 B ,  A61K 7/02 N ,  A61K 7/42 ,  C09C 1/04

Fターム (20件)：

4C083AB211 ,  4C083AB212 ,  4C083CC01 ,  4C083CC19 ,  4C083EE17 ,  4G047AA02 ,  4G047AB02 ,  4G047AC03 ,  4G047AD04 ,  4J037AA11 ,  4J037CA30 ,  4J037DD05 ,  4J037EE15 ,  4J037EE28 ,  4J037EE29 ,  4J037EE33 ,  4J037EE35 ,  4J037EE43 ,  4J037FF02 ,  4J037FF15