特許
J-GLOBAL ID：200903013468053055
金属薄膜の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
大家 邦久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-170059
公開番号（公開出願番号）：特開平5-339780
出願日： 1992年06月04日
公開日（公表日）： 1993年12月21日
要約：
【要約】【目的】 金属薄膜の製造方法の提供【構成】 目的金属の電解質液と該電解質液よりも比重の大きい非電解質の有機液体によって形成した二液相界面にカソードを設置して電解を行ない、該カソード先端に析出し成長する目的金属薄膜とアノードとの距離を制御して目的金属の薄膜を連続的に析出させることを特徴とする金属薄膜の製造方法。【効果】 数ミクロン程度の膜厚が均一で結晶面の揃った金属薄膜を容易に製造できる。剥離作業の必要がなく、製造が極めて容易である。不純物の濃集したカソード近傍部分の薄膜を簡単に除去できるので高純度の金属薄膜を容易に得ることができる。有機液体が目的金属の電解質溶液によって覆われるので、有機液体の蒸発による作業環境の悪化を生じることがく、目的金属の電解質溶液の補給が容易である。
請求項（抜粋）：
目的金属の電解質溶液と該電解質溶液よりも比重の大きい非電解質の有機液体によって形成した二液相界面にカソードを設置して電解を行ない、該カソード先端に析出し成長した目的金属薄膜とアノードとの距離を制御して目的金属の薄膜を連続的に析出させることを特徴とする金属薄膜の製造方法。
IPC (3件)：
C25D 1/04
, C25C 1/00 301
, C25C 7/06 301
