特許

J-GLOBAL ID：200903013473525682

めっき廃液処理方法

発明者： 福嶋 礼造 ,  関島 志帆 ,  中村 友昭 ,  大町 光寛
出願人/特許権者： 日本表面化学株式会社 ,  ハイモ株式会社
代理人 (1件)： 倉内 基弘 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-242520
公開番号（公開出願番号）：特開平10-066998
出願日： 1996年08月27日
公開日（公表日）： 1998年03月10日
要約：

【要約】【課題】 化学ニッケルめっき廃液から、次亜燐酸イオン、亜燐酸イオン、ニッケルイオン及び有機酸を効率的に除去すること。【解決手段】 化学ニッケルめっき廃液の処理において下記3工程1)廃液にカルシウム化合物を添加混合しpH11以上に保持しニッケルイオン及び亜燐酸イオンを水不溶性とし分離除去する工程、2)次いで廃液の電気電導度が1S/m以下になる様に希釈したのち微生物膜処理法による好気性生物処理により有機物を処理する工程、3)その後に、鉄塩を助剤として過酸化水素により酸化分解を行いCOD及び燐の除去を行う工程を逐次実施する操作を必須要件とする事を特徴とする化学ニッケルめっき廃液の処理方法。

請求項（抜粋）：

次亜燐酸イオン、亜燐酸イオン、ニッケルイオン及び有機酸を含有する化学ニッケルめっき廃液の処理において下記3工程1)廃液にカルシウム化合物を添加混合しpH11以上に保持しニッケルイオン及び亜燐酸イオンを水不溶性とし分離除去する工程、2)次いで廃液の電気電導度が1S/m以下になる様に希釈したのち微生物膜処理法による好気性生物処理により有機物を処理する工程、3)その後に、鉄塩を助剤として過酸化水素により酸化分解を行いCOD及び燐の除去を行う工程を逐次実施する操作を必須要件とする事を特徴とする化学ニッケルめっき廃液の処理方法。

IPC (6件)：

C02F 9/00 501 ,  C02F 9/00 502 ,  C02F 1/58 CDP ,  C02F 1/72 ZAB ,  C02F 3/02 ,  C02F 3/08

FI (6件)：

C02F 9/00 501 B ,  C02F 9/00 502 P ,  C02F 1/58 CDP R ,  C02F 1/72 ZAB Z ,  C02F 3/02 A ,  C02F 3/08 B