特許
J-GLOBAL ID：200903013475515781
微細パタン投影露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-254306
公開番号（公開出願番号）：特開平5-067553
出願日： 1991年09月06日
公開日（公表日）： 1993年03月19日
要約：
【要約】【目的】 高波数領域でMTF(コントラストの周波数依存性)を低下させず、かつ急峻なMTFカーブを与える光学系を構成して、パターン形成のプロセスマージンを高める。【構成】 微細パターンの投影露光装置において、マスクを照射する光線が光軸に対して投影レンズの開口数に対応した角度の傾きを与える手段を有する。そして、光軸に垂直な面内で見たとき、光軸に対称な4方向から4個の部分円環状光源21で照明するようにする。そのため、4個の部分円環状光源21を光軸に対して対称な位置に配置することにより、直交するL&Sパタンの解像性を向上させ、しかもMTFカーブを空間周波数に対して急峻とすることができる。
請求項（抜粋）：
物面マスク上のパタンを投影光学系を介してウエハ上に投影露光する投影露光装置において、マスクを照射する光線が光軸に対して投影レンズの開口数に対応した角度の傾きを与える手段を有し、光軸に垂直な面内で見たとき、光軸に対称な4方向から4個の部分円環状光源で照明するようにしたことを特徴とする微細パタン投影露光装置。
引用特許：
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