特許

J-GLOBAL ID：200903013479237867

基材表面の親水化処理方法

発明者： 千国 真 ,  早川 信 ,  北村 厚 ,  渡部 俊也
出願人/特許権者： 東陶機器株式会社
代理人 (1件)： 伊藤 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-150169
公開番号（公開出願番号）：特開平9-077535
出願日： 1996年05月22日
公開日（公表日）： 1997年03月25日
要約：

【要約】【目的】 種々の素材からなる基材の表面を親水化することにより、基材表面の防汚性、防曇性、洗浄性、および/又は生体親和性を向上させる。【構成】 基材の表面に光触媒を塗布し、光触媒を紫外線で光励起する。光触媒の作用により基材の表面に水が水酸基の形で化学吸着され、表面が親水化される。処理後は光触媒は洗い落とす。

請求項（抜粋）：

半導体光触媒を基材の表面に接触させながら光触媒を光励起し、もって、基材の表面を親水化することを特徴とする基材表面の親水化処理方法。

IPC (5件)：

C03C 17/25 ,  B01J 35/02 ,  C04B 41/80 ,  C08J 7/04 ,  B08B 17/02

FI (5件)：

C03C 17/25 A ,  B01J 35/02 J ,  C04B 41/80 Z ,  C08J 7/04 T ,  B08B 17/02