特許

J-GLOBAL ID：200903013500849533

画像形成材料

発明者： 大川 敦裕 ,  桜井 靖也
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-299364
公開番号（公開出願番号）：特開2001-341434
出願日： 2000年09月29日
公開日（公表日）： 2001年12月11日
要約：

【要約】【課題】 高感度で保存安定性に優れた新規な画像形成材料を提供すること。とくに、高出力レーザーを用いて画像形成を行った際にもヘイズが低く、良好な面状を与える画像形成材料を提供すること。【解決手段】 支持体上に熱の作用により酸を発生する特定構造のスルホネートエステル又はその重合体から選ばれる酸発生剤と、酸の作用による分子内もしくは分子間反応により360〜700nmの吸収域に変化を生じる化合物とを含有することを特徴とする画像形成材料。

請求項（抜粋）：

【請求項1】 支持体上に熱の作用により酸を発生する下記一般式(I)で表される酸発生剤又は該酸発生剤を重合して得られるポリマーと、酸の作用による分子内もしくは分子間反応により360〜700nmの吸収域に変化を生じる化合物とを含有することを特徴とする画像形成材料。一般式(I)【化1】(式中、R1 はアルキル基、アリール基もしくはヘテロ環基を表わす。R2及びR3はそれぞれ独立にアルキル基もしくはアリール基を表わすが、 R2とR3がともにアリール基であることはない。 またR2とR3が結合して環を形成してもよい。またR2とR3のうち少なくとも一方は重合性の不飽和基を有する。)

IPC (5件)：

B41M 5/30 ,  B41M 5/26 ,  G03C 1/675 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 507

FI (7件)：

G03C 1/675 A ,  G03F 7/004 503 Z ,  G03F 7/004 507 ,  B41M 5/18 108 ,  B41M 5/18 Q ,  B41M 5/18 101 B ,  B41M 5/26 S

Fターム (23件)：

2H025AA00 ,  2H025AA01 ,  2H025AB00 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025CC14 ,  2H025CC20 ,  2H026AA07 ,  2H026AA24 ,  2H026BB01 ,  2H026BB24 ,  2H026BB48 ,  2H026DD01 ,  2H026DD32 ,  2H026DD42 ,  2H026DD53 ,  2H111HA14 ,  2H111HA35 ,  2H123AD00 ,  2H123AD02 ,  2H123AD03