特許

J-GLOBAL ID：200903013513763859

基礎化粧料

発明者： 渡辺 博 ,  岡田 正紀
出願人/特許権者： ポーラ化成工業株式会社
代理人 (1件)： 遠山 勉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-031640
公開番号（公開出願番号）：特開平6-247836
出願日： 1993年02月22日
公開日（公表日）： 1994年09月06日
要約：

【要約】【目的】 肌に滑らかさやしっとり感を付与する効果に優れ、かつ、皮膚への吸着性が高い基礎化粧料を提供する。【構成】 化1で表されるスルホン酸変性シリコーンを基礎化粧料に配合する。【化1】ただし、各R1は独立に低級アルキル基又は非置換もしくは置換フェニル基を示し、R2は2〜11価の炭化水素残基を示し、その炭素-炭素一重結合は官能基の反応により生じる残基で中断されてもよく、また、Aはイソシアネート基と活性水素を持つ官能基との反応により生じる残基であり、R3はアリーレン基、直鎖又は分岐のアルキレン基、アルカリーレン基又はアラルキレン基を示し、Xは一価の金属、水素原子又は-H・X1(ここで、X1はアンモニア又はアミンを示す)を示し、また、mは50〜200の整数を示し、pは1〜10の整数を示す。

請求項（抜粋）：

化1で表されるスルホン酸変性シリコーンを含有する基礎化粧料。【化1】ただし、各R1は独立に低級アルキル基又は非置換もしくは置換フェニル基を示し、R2は2〜11価の炭化水素残基を示し、その炭素-炭素一重結合は官能基の反応により生じる残基で中断されてもよく、また、Aはイソシアネート基と活性水素を持つ官能基との反応により生じる残基であり、R3はアリーレン基、直鎖又は分岐のアルキレン基、アルカリーレン基又はアラルキレン基を示し、Xは一価の金属、水素原子又は-H・X1(ここで、X1はアンモニア又はアミンを示す)を示し、また、mは50〜200の整数を示し、pは1〜10の整数を示す。

IPC (2件)：

A61K 7/48 ,  A61K 7/00