特許
J-GLOBAL ID：200903013529761740
露光用マスクの製造方法、露光装置、半導体装置の製造方法およびマスクブランクス製品
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (8件)：
鈴江 武彦
, 河野 哲
, 中村 誠
, 蔵田 昌俊
, 峰 隆司
, 福原 淑弘
, 村松 貞男
, 橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-219178
公開番号（公開出願番号）：特開2006-039223
出願日： 2004年07月27日
公開日（公表日）： 2006年02月09日
要約：
【課題】 マスクパターンの位置ずれを防止できるフォトマスクの製造方法を提供すること。【解決手段】 フォトマスクの製造方法は、マスクブランクス基板に係る平坦度変化量データ2bを準備する工程と、平坦度変化量データ2bに基づいて、露光装置のチャック手段によりフォトマスクをチャックした状態で、フォトマスク上のマスクパターンが所定の位置になるように、マスクブランクス基板上に描画されるパターンの位置補正データ5を生成する工程と、マスクブランクス基板上にパターンを描画する工程であって、パターンに対応した描画データ6および位置補正データ5を描画装置内に入力し、パターンの描画位置を補正しながらパターンを描画する工程とを含む。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
露光用マスクとなるマスクブランクス基板に係る平坦度変化量データであって、露光装置内のチャック手段により前記マスクブランクス基板をチャックすることで生じる、前記マスクブランクス基板の平坦度の変化に係る平坦度変化量データを、生成または準備する工程と、
前記平坦度変化量データに基づいて、前記チャック手段により前記露光用マスクをチャックした状態で、前記露光用マスクのマスクパターンが所定の位置になるように、前記マスクブランクス基板の上に描画されるパターンの位置補正データを生成する工程と、
前記マスクブランクス基板の上にパターンを描画する工程であって、前記パターンに対応した描画データおよび前記位置補正データを描画装置内に入力し、前記パターンの描画位置を補正しながら前記パターンを描画する工程と
を含むことを特徴とする露光用マスクの製造方法。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, G03F 7/20
, H01L 21/027
G03F1/08 A
, G03F7/20 521
, H01L21/30 502P
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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