特許
J-GLOBAL ID：200903013531057309
ガス濃度測定のための校正法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡部 正夫 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-010350
公開番号（公開出願番号）：特開平5-264452
出願日： 1993年01月26日
公開日（公表日）： 1993年10月12日
要約：
【要約】【構成】 ガスの周囲温度が全く変化しないような短時間で測定下のガスを加熱して温度上昇と共にガス密度を減少することによってガスの状態変数を偏位させ、一方測定下のガスの分圧を本質的に一定に保つことを特徴とする、光吸収に基づくNDIR法によるガス濃度測定の校正方法を提供する。【効果】 本発明は、測定条件での測定装置の校正を容易にし、別の校正ガスを使う必要をなくす。本測定方法に基づく測定装置は、可動部分を用いる必要がないため簡単に且つかんじょうに作成できる。また、NDIR測定装置固有の不安定性によって生じる測定の不正確さを十分に除去し、装置のメインテナンス間隔を伸ばす。
請求項（抜粋）：
環境から少なくとも一部分隔離されている測定チャンネル(3)内に含まれる測定下のガス混合物に放射線を向け、ガスを透過する放射線の強度を測定し、測定した強度からガス濃度を計算し、測定装置を校正するためにガスの状態変数を制御方式で偏位させ、それによって透過放射線強度の水準を変化させ、透過放射線強度をガス状態変数の少なくとも二つの既知の点で測定し、それによって使う測定装置校正のためのデータを得ることからなる、光吸収に基づくNDIR法によるガス濃度測定の校正法において、当該校正法が、ガスの周囲濃度が全く変化しないように短時間で測定下のガスを加熱して温度上昇と共にガス密度を減少することによってガスの状態変数を偏位させ、一方測定下のガスの分圧を本質的に一定に保つことを特徴とする方法。
IPC (2件)：
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