特許

J-GLOBAL ID：200903013536349316

欠陥検査方法及び外観検査装置

発明者： 志村 啓
出願人/特許権者： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
代理人 (1件)： 平木 祐輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-212978
公開番号（公開出願番号）：特開2007-033073
出願日： 2005年07月22日
公開日（公表日）： 2007年02月08日
要約：

【課題】欠陥検出の安定性を向上させる。【解決手段】第一の閾値と、それより低い第二の閾値を用いる。ダイ比較の場合には、閾値処理部52a,52bにおいて、検査チップの画像と左右のチップの画像との差画像をそれぞれ第二の閾値で閾値判定し、検査チップの欠陥候補を求める。さらに、閾値処理部51a、51bにおいて、検査チップの画像と左右のチップの画像との差画像をそれぞれ第一の閾値で閾値判定し、先の第二の閾値による処理で欠陥候補となったもののうち、少なくとも左右どちらかのチップとの差画像で第一の閾値以上の信号がでているものを欠陥として検出する。セル比較の場合にも、差画像を、まず第二の閾値で処理して欠陥候補を求め、さらに、差画像を第一の閾値でも処理し、先の第二の閾値による処理で欠陥候補となったもののうち、2つのピークのうち少なくとも一方で第一の閾値以上の信号がでているものを欠陥として検出する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

被検査物の、それぞれ同等のパターンが形成された異なる3箇所の画像を取得する工程と、 第1の画像と第2の画像の差を第1の閾値で処理する第1の処理工程と、 第1の画像と第2の画像の差を前記第1の閾値より小さい第2の閾値で処理する第2の処理工程と、 第2の画像と第3の画像の差を前記第1の閾値で処理する第3の処理工程と、 第2の画像と第3の画像の差を前記第2の閾値で処理する第4の処理工程と、 前記第2の処理工程と第4の処理工程でともに第2の閾値を超えた画素を欠陥候補とする工程と、 前記欠陥候補のうち、前記第1の処理工程と第3の処理工程の少なくとも一方で前記第1の閾値を超えた画素を欠陥と判定する工程と を有することを特徴とする欠陥検査方法。

IPC (3件)：

G01N 21/956 ,  G06T 1/00 ,  H01L 21/66

FI (3件)：

G01N21/956 Z ,  G06T1/00 305A ,  H01L21/66 J

Fターム (37件)：

2G051AA51 ,  2G051AA56 ,  2G051AA61 ,  2G051AB01 ,  2G051AB02 ,  2G051BA05 ,  2G051BA10 ,  2G051BA20 ,  2G051CA03 ,  2G051CA04 ,  2G051DA07 ,  2G051DA08 ,  2G051EA08 ,  2G051EB01 ,  2G051EB02 ,  2G051ED07 ,  4M106AA01 ,  4M106AA09 ,  4M106BA04 ,  4M106BA05 ,  4M106CA39 ,  4M106CA41 ,  4M106DB04 ,  4M106DJ14 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ20 ,  4M106DJ27 ,  5B057AA03 ,  5B057BA02 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057CH20 ,  5B057DA03 ,  5B057DB02 ,  5B057DB09 ,  5B057DC32

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特開昭61-212708号公報
  
• 特開平2-170279号公報