特許

J-GLOBAL ID：200903013539101137

防汚膜形成用組成物及び表示素子用フィルター

発明者： 近藤 洋文
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 佐藤 隆久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-003896
公開番号（公開出願番号）：特開平10-195417
出願日： 1997年01月13日
公開日（公表日）： 1998年07月28日
要約：

【要約】【課題】安価な炭化水素系の撥水基を有する化合物を用いて基材に対して耐溶剤性、耐汚染性、耐加工性、耐擦傷性等に優れた防汚膜を与えることができる防汚膜形成用組成物、及び該防汚膜形成用組成物を用いて反射防止膜上に防汚膜が形成された表示素子用フィルターを提供する。【解決手段】下記一般式(1)で示されるエポキシ基を有するアルコキシシラン化合物を含有する防汚膜形成用組成物とする。また、かかる組成物で表示素子の面に防汚膜を形成する。R-Si(OR1 )3 ...(1)(但し、式中、Rはエポキシ基を含有する非置換又は置換の一価炭化水素基、R1 は非置換又は置換のアルキル基を示す。)

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で示されるエポキシ基を有するアルコキシシラン化合物を含有することを特徴とする防汚膜形成用組成物。R-Si(OR1 )3 ...(1)(但し、式中、Rはエポキシ基を含有する非置換又は置換の一価炭化水素基、R1 は非置換又は置換のアルキル基を示す。)

IPC (8件)：

C09K 3/00 112 ,  C09K 3/18 101 ,  G02B 1/10 ,  H01J 5/08 ,  H01J 5/16 ,  H01J 29/88 ,  H01J 29/89 ,  C08G 65/22

FI (8件)：

C09K 3/00 112 F ,  C09K 3/18 101 ,  H01J 5/08 ,  H01J 5/16 ,  H01J 29/88 ,  H01J 29/89 ,  C08G 65/22 ,  G02B 1/10 Z