特許
J-GLOBAL ID:200903013542678763
紫外線発生装置およびそれを用いた処理方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
井桁 貞一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-045083
公開番号(公開出願番号):特開平5-243138
出願日: 1992年03月03日
公開日(公表日): 1993年09月21日
要約:
【要約】【目的】 マイクロ波を利用する紫外線発生装置およびその応用に関し,例えば半導体ウエハのような比較的大面積の表面に対して,レジスト層の硬化,表面の清浄化,エッチングあるいはアッシング等を効率よく実施するために必要な高エネルギー密度の紫外線を照射可能とすることを目的とする。【構成】 マイクロ波の進行方向に垂直な断面が矩形であり且つマイクロ波発生源に接続された一端と閉じられた他端とを有し且つH01 モードのマイクロ波の電界に垂直な面の一つに開口が設けられた導波管と,該開口に接する誘電体から成る上部平板と該上部平板に所定間隙を以て対向する紫外線透過性物質から成る下部平板とを有し且つ該上部平板と該下部平板との間の空間に例えば水銀蒸気のような紫外線を発生する気体状物質が封入された紫外線発生部とを備えるように構成する。
請求項(抜粋):
マイクロ波の進行方向に垂直な矩形の断面を有し且つマイクロ波発生源に接続された一端と閉じられた他端とを有し且つH01 モードのマイクロ波の電界に垂直な面の一つに開口が設けられた導波管と,該開口に接する誘電体から成る上部平板と所定間隙を以て該上部平板に対向する紫外線透過性物質から成る下部平板とを有し且つ該上部平板と該下部平板との間の空間に紫外線を発生する気体状物質が封入された紫外線発生部とを備えたことを特徴とする紫外線発生装置。
IPC (3件):
H01L 21/027
, H01L 21/26
, H01L 21/302
FI (3件):
H01L 21/30 361 A
, H01L 21/30 361 R
, H01L 21/30 361 P
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