イオンプレーティング装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：井島藤治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-164708
公開番号（公開出願番号）：特開平6-002120
出願日： 1992年06月23日
公開日（公表日）： 1994年01月11日
要約：

【要約】【目的】プラズマ電子銃からの電子の利用効率が優れたイオンプレーティング装置を実現する。【構成】プラズマ電子銃9から射出口Eを通ってチャンバー1内に導入された電子ビームは4枚の絶縁板25a〜25dによってその進行方向の制限が行われる。各絶縁板25a〜25dは、最初に拡散してきた電子ビームが衝突するが、この電子ビームの衝突によって負に帯電し、その後は電子ビームに対して反射板として作用する。従って、射出口Eからの電子ビームは絶縁板25a〜25dによってその進行方向が制限されルツボ2(蒸発源)上に指向される。また、ルツボ2の上部に向かう電子ビームは、絶縁板26a〜26cによって反射され、ルツボ2の上部の蒸発粒子の密度の高い領域を進行する。

請求項（抜粋）：

チャンバーと、チャンバー内に設けられた蒸発源と、蒸発源から蒸発した粒子が付着される基板と、チャンバーの側部に設けられ、チャンバー内の蒸発粒子をイオン化するための電子ビームを発生するプラズマ電子銃と、チャンバー内に設けられ、プラズマ電子銃からの電子ビームの進行方向を制御するための絶縁板とを備えたイオンプレーティング装置。

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