特許
J-GLOBAL ID:200903013555472994

プラズマ発生装置及びこれを用いた表面清掃方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高橋 昌久 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-154993
公開番号(公開出願番号):特開2001-332399
出願日: 2000年05月25日
公開日(公表日): 2001年11月30日
要約:
【要約】【課題】 電極およびその周辺の温度を高温プラズマ流が常時正常に生成されるとともに、電極の過熱の発生による焼損を回避できる適正温度に保持できるプラズマ発生装置及びこれを用いた表面清掃方法を提供する。【解決手段】 陰極の電極と、該電極を囲み作動流体室が内部に形成された陽極のノズルとの間に発生させたアークにより作動流体を媒体としてプラズマ流を生成するプラズマ発生装置において、ノズルの外部に水蒸気発生装置を設け、ノズルの内部には、水蒸気発生装置で生成された水蒸気を作動流体室に導く水蒸気通路を設けてなることを特徴とする。また、前記プラズマ発生装置を、被清掃表面に近接させて、プラズマ流を前記被清掃表面に吹き付け、該表面に付着した異物を除去する。
請求項(抜粋):
【請求項1】 陰極に保持された電極と、該電極を囲み作動流体が流動する作動流体室が内部に形成されて陽極に保持されたノズルとの間にアークを発生させ、該アークにより前記作動流体を媒体としてプラズマ流を生成するプラズマ発生装置において、前記ノズルの外部に水蒸気を発生させる水蒸気発生装置を設け、前記ノズルの内部には、前記水蒸気発生装置に接続され該水蒸気発生装置で生成された水蒸気を前記作動流体室に導く水蒸気通路を設けてなることを特徴とするプラズマ発生装置。
IPC (5件):
H05H 1/42 ,  B08B 3/08 ,  B08B 7/04 ,  F27D 11/08 ,  H05H 1/34
FI (5件):
H05H 1/42 ,  B08B 3/08 Z ,  B08B 7/04 Z ,  F27D 11/08 E ,  H05H 1/34
Fターム (21件):
3B116AA46 ,  3B116AB51 ,  3B116BB11 ,  3B116BB22 ,  3B116BB32 ,  3B116BB88 ,  3B116BB89 ,  3B116BC01 ,  3B201AA46 ,  3B201AB51 ,  3B201BB13 ,  3B201BB22 ,  3B201BB32 ,  3B201BB88 ,  3B201BB89 ,  3B201BB92 ,  3B201BB98 ,  3B201BC01 ,  4K063AA04 ,  4K063AA12 ,  4K063FA52

前のページに戻る