特許
J-GLOBAL ID：200903013569906636
(メタ)アクリル系及びビニル系単量体を制御下で重合又は共重合する方法並びに該方法によって得られる生成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
平木 祐輔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-067634
公開番号（公開出願番号）：特開平10-007720
出願日： 1997年03月21日
公開日（公表日）： 1998年01月13日
要約：
【要約】【課題】 重合体鎖の分子量の分布を制御でき、しかも低温で、水性媒質中で、かつ工業的規模で実施可能なラジカル重合法又は共重合法を提供する。【解決手段】 (メタ)アクリル系及び/又はビニル系単量体を制御下でラジカル重合又は共重合する方法であって、0°Cまで低下させることができる温度において、ラジカル発生剤と、以下のタイプの配位子 [4-R3-2,6-(CH2NR1R2)2C6H2]- (I)〔式中、R1及びR2は同じであっも異なっていてもよく、分枝若しくは非分枝C1-C4アルキル基又はフェニル基を表すか、又はその代わりにR1及びR2 はそれらが結合する窒素原子と共に環状アミンを形成するか、又はその代わりに2つのR2基は一緒になってポリメチレン架橋を形成し、R3は水素原子、アルキル基若しくはベンジル基、又は電子供与性官能基若しくは電子求引性官能基を表す〕を含有する金属錯体から成る少なくとも1つの触媒とを含む開始系の存在下で、少なくとも1つの該単量体をバルク、溶液、乳化、若しくは懸濁重合又は共重合することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
(メタ)アクリル系及び/又はビニル系単量体を制御下でラジカル重合又は共重合する方法であって、0°Cまで低下させることができる温度において、ラジカル発生剤と、以下のタイプの配位子: [4-R3-2,6-(CH2NR1R2)2C6H2]- (I)〔式中、R1及びR2は同じであっも異なっていてもよく、分枝若しくは非分枝C1-C4アルキル基又はフェニル基を表すか、又はその代わりにR1及びR2はそれらが結合する窒素原子と共に環状アミンを形成するか、又はその代わりに2つのR2基は一緒になってポリメチレン架橋を形成し、R3は水素原子、アルキル基若しくはベンジル基、又は電子供与性官能基若しくは電子求引性官能基を表す〕を含有する金属錯体から成る少なくとも1つの触媒とを含む開始系の存在下で、少なくとも1つの前記単量体をバルク、溶液、乳化、若しくは懸濁重合又は共重合することを特徴とする前記方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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