特許

J-GLOBAL ID：200903013579883618

セラミックス皮膜の緻密化方法およびその緻密化したセラミックス皮膜

発明者： 芝山 宗昭 ,  西森 修次 ,  荒木 孝雄 ,  西田 稔
出願人/特許権者： 株式会社四国総合研究所 ,  四国電力株式会社
代理人 (1件)： 西脇 民雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-013470
公開番号（公開出願番号）：特開平10-202782
出願日： 1997年01月28日
公開日（公表日）： 1998年08月04日
要約：

【要約】【課題】 コーティング技術で形成されたセラミックス皮膜に存在するポアを封止してセラミックス皮膜を緻密化し、ポア等によりそのセラミックス皮膜や金属素材表面が損傷することを防止して、そのセラミックス皮膜による所期の目的を確実に達成する。【解決手段】 金属基材1の表面に、この金属基材1とは異種の金属からなる中間材層2を形成して金属素材3を用意し、その金属素材3の前記中間材層2の表面にセラミックス皮膜4を形成し、当該皮膜4の表面側からのレーザ照射により前記中間材を溶融させ、この溶融した中間材を前記皮膜4に形成されたポア7等に侵入させる。

請求項（抜粋）：

金属基材の表面に、この金属基材とは異種の金属からなる中間材層を形成して金属素材を用意し、その金属素材の前記中間材層の表面にセラミックス皮膜を形成し、当該皮膜の表面側からのレーザ照射により前記中間材を溶融させ、この溶融した中間材を前記皮膜に形成されたポア等に侵入させることを特徴とするセラミックス皮膜の緻密化方法。

IPC (3件)：

B32B 15/04 ,  B05D 3/06 ,  B32B 18/00

FI (3件)：

B32B 15/04 B ,  B05D 3/06 Z ,  B32B 18/00 B