特許
J-GLOBAL ID：200903013581332190
位相シフトマスク及び位相シフトマスクを用いた露光方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高月 亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-034875
公開番号（公開出願番号）：特開平6-230556
出願日： 1993年01月30日
公開日（公表日）： 1994年08月19日
要約：
【要約】【目的】 補助パターン方式、エッジ強調方式及びハーフトーン方式の各位相シフト露光技術の欠点を除去し、描画における精度制御を良好にし、線幅制御性を良くし、透過型欠陥などの問題を解決した位相シフト露光技術を提供する。【構成】 遮光領域13及び第1の光透過部10と、両者10,13の間に形成された第2の光透過部12とを備え、該第2の光透過部の光透過率が0より大きくかつ被露光感光性組成物を感光させない程度に小さく、かつ第2の光透過部の位相が第1の光透過部と位相を異ならせた位相シフト部分であり、必要に応じ第2の光透過部12の一部分に、第3の部分を形成した位相シフトマスク、及びこれを用いた露光方法。
請求項（抜粋）：
遮光領域、及び、第1の光透過部と、該第1の光透過部と遮光領域との間に形成された第2の光透過部とを備え、該第2の光透過部の光透過率が0より大きくかつ被露光感光性組成物を感光させない程度に小さく、かつ第2の光透過部の位相が第1の光透過部と位相を異ならせた位相シフト部分であることを特徴とする位相シフトマスク。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, G03F 7/20 521
, H01L 21/027
