特許

J-GLOBAL ID：200903013581728468

ウェーハ研磨装置

発明者： ミハイル ツーゾフ
出願人/特許権者： 株式会社東京精密
代理人 (1件)： 松浦 憲三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-206500
公開番号（公開出願番号）：特開2002-018699
出願日： 2000年07月07日
公開日（公表日）： 2002年01月22日
要約：

【要約】【課題】本発明は、ウェーハ外周縁の過剰研磨を防止することによりウェーハ全面を均一に研磨することができるウェーハ研磨装置を提供する。【解決手段】本発明のウェーハ研磨装置10によれば、研磨パッド20に押し付けられる押付部材16を保持ヘッド14に対して研磨パッド20の回転方向上流側に研磨パッド20に近接して配置している。押付部材16は、保持ヘッド14の上流側全縁部をカバーするように保持ヘッド14の外周に沿った略半円弧形状に形成されている。押付部材16に起因して発生する研磨パッド20の盛り上がり部は、押付部材16の外周縁16Aに対応する盛り上がり部20A及び押付部材16の内周縁16Bに対応する盛り上がり部20Bのみで、ウェーハ30の外周縁30Aから離れているので、盛り上がり部20A、20Bによるウェーハ外周縁30Aの過剰研磨を防止できる。

請求項（抜粋）：

ウェーハを保持ヘッドに保持し回転する研磨パッドに押し付けて、ウェーハの表面を研磨するウェーハ研磨装置において、前記保持ヘッドに対して前記研磨パッドの回転方向上流側に、該研磨パッドに押し付けられる押付部材が配置されていることを特徴とするウェーハ研磨装置。

IPC (4件)：

B24B 37/00 ,  B24B 53/02 ,  H01L 21/304 622 ,  H01L 21/304

FI (6件)：

B24B 37/00 A ,  B24B 53/02 ,  H01L 21/304 622 F ,  H01L 21/304 622 G ,  H01L 21/304 622 E ,  H01L 21/304 622 M

Fターム (9件)：

3C047AA16 ,  3C047AA34 ,  3C047BB01 ,  3C058AA12 ,  3C058AA19 ,  3C058AC04 ,  3C058CB01 ,  3C058DA12 ,  3C058DA17