特許
J-GLOBAL ID:200903013586101820

EUV露光装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 細江 利昭
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-140806
公開番号(公開出願番号):特開2006-319163
出願日: 2005年05月13日
公開日(公表日): 2006年11月24日
要約:
【課題】 レチクルの静電チャック面に異物が付着した場合に、予めそれを検出して、不適当なレチクルを使用しないようにすることにより、正確な露光転写を行うことができるEUV露光装置を提供する。【解決手段】 レチクル1は、真空ロボットの搬送アーム2に搭載された状態で、異物検査装置3の下側に搬送される。この状態で、レチクル1の上面が静電チャックに吸着される面、下面がパターンが形成された面となっている。異物検査装置3は、光源装置4を有しており、光源装置4から放出される照射光5がレチクル1の上面を照射する。レチクル1の上面である静電吸着面は平面となっており、異物が無い場合には、レチクル1で反射する光束が検出器7に入射しないように、検出器7が配置されている。静電吸着面に異物が存在すると、照射光5は散乱され、散乱光6が検出器7に入射する。これにより、静電吸着面に異物が存在するかどうかを検出することができる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
EUV光を使用してレチクル上に形成されたパターンをウエハ上に露光転写するEUV露光装置であって、前記レチクルのEUV装置本体部に保持される部分に存在する異物を検査する異物検査装置を有することを特徴とするEUV露光装置。
IPC (2件):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20
FI (3件):
H01L21/30 531A ,  G03F7/20 503 ,  H01L21/30 514E
Fターム (11件):
2H097AA02 ,  2H097BA04 ,  2H097CA15 ,  2H097LA10 ,  5F046AA18 ,  5F046BA05 ,  5F046CC09 ,  5F046CD02 ,  5F046GA03 ,  5F046GA07 ,  5F046GA12

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