特許
J-GLOBAL ID：200903013588234509
回折型光学素子の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森田 雄一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-329096
公開番号（公開出願番号）：特開2001-147310
出願日： 1999年11月19日
公開日（公表日）： 2001年05月29日
要約：
【要約】【課題】関数による表現が困難な格子パターンを有する回折型光学素子の製造方法を提供する。【解決手段】関数による表現が困難な格子パターンを電子計算器により設計し、この格子パターンを表現する格子データを用いて回折型光学素子を製造する。
請求項（抜粋）：
光学素子面の位置座標およびこの位置座標に対応する格子レベルについての格子データを、光学素子を適用する光学系に合わせて予め設定する第1のステップと、この第1のステップにより設定された回折型光学素子に光を入射し、この回折型光学素子から出射する回折光の回折角を計算により決定し、この回折角に基づいて回折後の入射光線の追跡を行なって所定の検出値を評価する第2のステップと、この第2のステップにより評価された所定の検出値が向上するように前記格子データを修正する第3のステップとを有し、前記所定の検出値が基準値に達するまで、前記第2のステップと第3のステップとを繰り返し、検出値が基準値に達したときの格子データに基づいて回折型光学素子を製造する方法において、前記第2のステップが、入射波長、入射角、および入射位置を予め決定した光を入射させ、入射光線と回折型光学素子面との交点周辺における格子レベルの変化を検出し、格子レベルの変化が検出されるときの位置座標を用いて回折型光学素子面の格子ピッチを算出し、算出した格子ピッチ、入射波長、入射角および入射位置を用いて回折角を算出して、各入射光線の追跡を行なって所定の検出値を評価することを特徴とする回折型光学素子の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G02B 5/18
, G06F 15/60 680 A
2H049AA03
, 2H049AA04
, 2H049AA31
, 2H049AA63
, 5B046AA00
, 5B046BA05
, 5B046DA02
, 5B046HA07
, 5B046JA02
, 5B046JA05
