特許
J-GLOBAL ID：200903013599913335
プラズマ溶射トーチ
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石川 新
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-314814
公開番号（公開出願番号）：特開平10-152766
出願日： 1996年11月26日
公開日（公表日）： 1998年06月09日
要約：
【要約】【課題】 従来のプラズマ溶射トーチにおいては、粉末供給ポートの径、粉末供給ガスの流量を変化させるなどして粉末粒子の飛行軌跡を調整しているが実際には有効でなく、溶射材料の付着効率が低い、皮膜の品質が不安定であるなどの問題がある。特に、プラズマ溶射トーチを使用すると陽極や陰極などの消耗が生じてプラズマジェットの形状が変化し、粉末粒子の適正な飛行軌跡の再調整が必要であるが、従来のプラズマ溶射トーチにおいてはこのような調整が不可能である。【解決手段】 アーク放電により陽極ノズル孔21aから噴射されるプラズマジェットの流れに陽極ノズル孔21a上流または下流に設けられた粉末供給ポート26から溶射材料の粉末粒子を供給して溶射を行うプラズマ溶射トーチにおける粉末供給ポート26を軸方向に進退およびプラズマジェットの流れに対して略直角方向に移動可能に設ける。
請求項（抜粋）：
アーク放電により陽極ノズル孔から噴射されるプラズマジェットの流れに上記陽極ノズル孔上流または下流に設けられた粉末供給ポートから溶射材料の粉末粒子を供給して溶射を行うプラズマ溶射トーチにおいて、上記粉末供給ポートを軸方向に進退およびプラズマジェットの流れに対して略直角方向に移動可能に設けたことを特徴とするプラズマ溶射トーチ。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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