特許

J-GLOBAL ID：200903013600392360

ネガ型フォトレジスト用剥離液組成物

発明者： 大田 利幸 ,  田代 英昭 ,  佐野 公康 ,  佐藤 穂積
出願人/特許権者： ジェイエスアール株式会社
代理人 (1件)： 岩見谷 周志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-055549
公開番号（公開出願番号）：特開平10-239865
出願日： 1997年02月24日
公開日（公表日）： 1998年09月11日
要約：

【要約】【課題】 特にアルカリ現像性で、20μm以上の厚膜が形成可能なネガ型レジストに対しても剥離性能が優れ、冬期の屋外貯蔵でも凍結等の問題が少なく、従来よりも安全で、環境汚染の問題の少ない、バンプ形成や回路基板作製に有用なネガ型フォトレジスト用の剥離液組成物を提供する。【解決手段】 前記剥離液組成物はジメチルスルホキシド、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、テトラ(置換)アルキルアンモニウムヒドロキシド、及び水を各々特定量含有する。

請求項（抜粋）：

ジメチルスルホキシドを30〜75重量%、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノンを20〜65重量%、テトラ(置換)アルキルアンモニウムヒドロキシドを0.1〜5重量%、及び水を0.5〜15重量%含有することを特徴とするネガ型フォトレジスト用剥離液組成物。