特許
J-GLOBAL ID:200903013602141756

基準パターン作成装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高矢 諭 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-157762
公開番号(公開出願番号):特開平7-037085
出願日: 1993年06月29日
公開日(公表日): 1995年02月07日
要約:
【要約】【目的】 パターンマッチングにおいて、精度の高い基準パターンを作成する。【構成】 初期基準パターン作成手段、マッチング手段、画像切り出し手段及び画素値平均化手段を備え、実際のパターン検出時と同一条件で入力された学習用画像から、一定マッチ度以上初期基準パターンと類似した部分画像を切り出し、平均化することにより、基準パターンを作成する。
請求項(抜粋):
画像と基準パターンとのマッチングを行う際に用いる基準パータンを作成する基準パターン作成装置において、初期基準パターンを作成する手段と、マッチング処理対象と同一条件で入力された学習用画像と前記初期基準パターンとのマッチングを行うマッチング手段と、前記マッチングにおいてマッチ度が一定値を越えた、前記初期基準パターンと同一寸法、同一形状の部分画像を、全て前記学習用画像から切り出す画像切り出し手段と、前記切り出された部分画像群の各画素位置毎に、全ての部分画像の画素値を平均化する手段とを有し、前記の各画素位置毎に平均化された画素値を、同一画素位置の画素値とする基準パターンを作成することを特徴とする基準パターン作成装置。

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