特許

J-GLOBAL ID：200903013605250270

スルホキシド類含有廃水の処理方法

発明者： 天川 雅文
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 菅野 中
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-265726
公開番号（公開出願番号）：特開平9-085261
出願日： 1995年10月13日
公開日（公表日）： 1997年03月31日
要約：

【要約】【課題】 スルホキシド類の有機硫黄化合物を汚染物として含有する廃水の処理において、硫黄系悪臭物質の発生を防止し、TOC成分を十分に分解除去する。【解決手段】 スルホキシド類有機硫黄化合物を含有する有機廃水に過酸化水素あるいはオゾンを共存させ、紫外線を照射することにより、スルホキシド類有機硫黄化合物をスルホン酸(-SO3Hを含む酸)の形態に分解する。さらに、過酸化水素の共存下で紫外線を照射するか、あるいは好気的条件下での生物学的処理を施すことにより、十分にTOC成分を分解除去する。【効果】 スルホキシド類有機硫黄化合物はスルホン酸を経て硫酸へと分解されるため、スルフィド等の硫黄系悪臭を発生させることなく、H2O,CO2,H2SO4までの分解処理が可能となる。

請求項（抜粋）：

スルホキシド類有機硫黄化合物を含有する有機廃水に過酸化水素を共存させ、この有機廃水に光反応用光線を照射し、スルホキシド類有機硫黄化合物を分解することを特徴とするスルホキシド類含有廃水の処理方法。

IPC (5件)：

C02F 1/58 ZAB ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/72 101 ,  C02F 1/78 ,  C02F 3/02

FI (5件)：

C02F 1/58 ZAB A ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/72 101 ,  C02F 1/78 ,  C02F 3/02 Z